描述
半導體界一直在不斷地努力挑戰摩爾定律的極限，但隨著技術的發展，這種成長逐漸變得更具挑戰性，因此一些新技術和方法被使用來應對這個問題。其中，環繞式閘極 (gate-all-around，GAA)製程被視為半導體製造中的新一代重要技術演進。
本 Matrixy 活的專利地圖專案彙整了半導體製造產業與GAA製程相關的專利，呈現專利主要申請人以及專利申請國家、申請年份的專利地圖資料，並分析相關專利的熱點關鍵字，讓您深入了解GAA技術的發展趨勢。
專利地圖-環繞式閘極場效電晶體
主要申請人的專利內容篩選與標定
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